涂溶教授

武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室

研究领域

1.功能陶瓷薄膜与涂层、表面防护涂层

2.宽禁带半导体材料、二维层状材料

3.化学气相沉积、物理气相沉积等

教育经历

1.1989.09-1993.06 武汉工业大学材料科学系材料科学专业工学学士；

2.1998.04-2000.03（日本）东北大学工学研究科材料物性专业工学硕士；

3.2000.04-2003.03（日本）东北大学工学研究科材料加工专业工学博士。

项目经历

1.国家教育部和外专局项目高等学校学科创新引智基地（111计划）：功能薄膜新材料的先进制备技术及工程应用学科创新引智基地（项目编号：B13035），900万元，2013.01-2022.12。

2.国家自然科学基金面上项目：高温超导氧化物薄膜的激光化学气相沉积技术（项目编号：51372188），80万元，2014.01-2017.12。

3.国家科技部国际科技合作专项：大尺寸碳化硅的激光化学气相沉积技术及应用合作研发（项目编号：2014DFA53090），464万元，2014.12-2017.11。

4.湖北省自然科学基金创新群体项目：功能薄膜材料的结构与性能调控（项目编号：2016CFA006），50万元，2016.9-2019.8。

5.国家自然科学基金面上项目：硬质刀具涂层的连续/脉冲型双激光化学气相沉积机理研究（项目编号：51872212），60万元，2019.01-2022.12。

6.国家自然科学基金，国际(地区)合作与交流项目，化学气相沉积技术制备碳化硅生物医用涂层（项目编号：51861145306）160万元，2019.01-2021.12。

代表性论文及著作

1.Rong Tu, Kaidong Wang, Ting Wang, Meijun Yang, Qizhong Li,Song Zhang, Lianmeng Zhang, Takashi Goto, Ji Shi, Hitoshi Ohmori: Structuralstudy of epitaxial NdBa2Cu3O7-x films by laser chemical vapor deposition, RSCAdvances, 29(2018)19811-19817。

2.Rong Tu, Tiantian Xu, Dengfeng Li, Song Zhang*, Meijun Yang,Qizhong Li, Lianmeng Zhang, Toshihiro Shimada, Takashi Goto and Ji Shi:Morphology and mechanical behavior of diamond films fabricated by IH-MPCVD, RSCAdvances, 29(2018)16061-16068。

3.Rong Tu, Yao Liang, Chitengfei Zhang, Jun Li, Song Zhang,Meijun Yang, Qizhong Li, Takashi Goto, Lianmeng Zhang, Ji Shi, Haiwen Li,Hitoshi Ohmori, Marina Kosinova, Bikramjit Basu, Fast synthesis of high-qualitylarge-area graphene by laser CVD, Applied Surface Science, 445 (2018) 204–210。

4.Rong Tu, Bing Xiao, Song Zhang, Zhao Deng, Qizhong Li, MeijunYang, Takashi Goto, Lianmeng Zhang and Hitoshi Ohmori: Mechanical, electricaland thermal properties of ZrC-ZrB2-SiC ternary eutectic composites prepared byarc melting, Journal of the European Ceramic Society, 38(9)(2018)3759-3766。

5.Karla Hernandez Ruiz, Jiajia Liu, Rong Tu*, Meijuan Li, SongZhang, Jorge Roberto Vargas Garcia, Shichun Mu, Haiwen Li, Takashi Goto,Lianmeng Zhang: Effect of microstructure on HER catalytic properties of MoS2vertically standing nanosheets, Journal of Alloys and Coumpounds,747(2018)100-108。

6.Chitengfei Zhang, Jin Huang, Rong Tu, Song Zhang*, MeijunYang, Qizhong Li, Ji Shi, Haiwen Li, Lianmeng Zhang, Takashi Goto and HitoshiOhmori: Transfer-free growth of graphene on Al2O3 (0001) using a three-stepmethod, Carbon, 131(2018)10-17。

7.Ting Wang, Kaidong Wang, Rong Tu, Song Zhang, Meijun Yang,Qizhong Li, Ji Shi, Haiwen Li, Takashi Goto, Lianmeng Zhang: Thicknessdependence of structure and superconductivity of SmBa2Cu3O7 film by laser CVD,Rsc Advances, 89(7)(2017)56166-56172。

8.Qingfang Xu, Zhao Deng, Qingyun Sun, Rong Tu, Song Zhang,Meijun Yang, Qizhong Li, Lianmeng Zhang, Takashi Goto, Hitoshi Ohmori:Electrically conducting graphene/SiC(111) composite coatings by laser chemicalvapor deposition, Carbon, 139(2018)76-84。

9.Peipei Zhu, Meijun Yang, Qingfang Xu, Qingyun Sun, Rong Tu,Jun Li, Song Zhang, Qizhong Li, Lianmeng Zhang, Takashi Goto, Ji Shi, HaiwenLi, Hitoshi Ohmori, Marina Kosinova and Bikramjit Basu: Epitaxial growth of3C–SiC on Si(111) and (001) by laser CVD, Journal of the American CeramicSociety, 101(9)(2018)3850-3856。

10.Qingyun Sun, Peipei Zhu, Qingfang Xu, Rong Tu, Song Zhang, JiShi, Haiwen Li, Lianmeng Zhang, Takashi Goto, Jiasheng Yan, Shusen Li:High-speed Heteroepitaxial Growth of 3C-SiC (111) Thick Films on Si (110) bylaser CVD, Journal of the American Ceramic Society, 101(2018)1048–1057。

11.发明人：涂溶、朱佩佩、章嵩、Takashi GOTO、张联盟；碳化硅膜的制备方法，专利号：ZL201410162587.6。

12.发明人：涂溶、李念、李其仲、章嵩、张联盟；一种B4C-HfB2高温共晶自生复合陶瓷的制备方法，专利号：ZL201410724820.5，专利申请日：2014.12.3，授权公告日：2017.3.22。

13.发明人：涂溶、孙清云、章嵩、张联盟；一种梯度碳化硼薄膜及其制备方法，专利号：ZL201410815843.7。

14.发明人：涂溶、可望、章嵩、汪婷、张联盟；一种铜酸钆薄膜的制备方法，专利号：ZL201510143684.5。